WEKO3
アイテム / Low temperature and fast growth of one-directionally grown aluminum nitride film by atmospheric pressure halide CVD method / 190927001
190927001
ファイル | ライセンス |
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190927001.pdf (6.2 MB) sha256 18c687f4a38fca3f1a3593d53ca7cd58721b46a3d2acbf149612dc241a8553cb |
公開日 | 2019-09-27 | |||||
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ファイル名 | 190927001.pdf | |||||
本文URL | https://shizuoka.repo.nii.ac.jp/record/11856/files/190927001.pdf | |||||
ラベル | 190927001 | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 6.2 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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